Удк 621. 315. 592 рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження icon

Удк 621. 315. 592 рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження




Скачати 17.77 Kb.
НазваУдк 621. 315. 592 рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження
Дата30.06.2013
Розмір17.77 Kb.
ТипДокументи

УДК 621.315.592


рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження


М.І.Клюй, В.П.Темченко, А.В.Макаров, В.Б.Лозінський, Л.В.Авксентьєва, С.В.Литвиненко1

Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова, НАН України. klyui@isp.kiev.ua

1Київський національний університ імені Тараса Шевченка


В роботі запропоновано новий метод осадження кремнієвого порошку на підкладинки різного типу (металеві, напівпровідникові, керамічні) – метод газо-детонаційного осадження (ГДО). Суттєва перевага цього методу полягає в тому, що при осадженні порошок кремнію дуже короткий час знаходиться під впливом високої температури вибухової хвилі, що дозволяє запобігти значному окисленню та аморфізації порошка вихідного матеріалу. В результаті може бути отриманий шар кремнію товщиною 50-150 мкм. Технологія формування кремнієвих шарів методом ГДО дозволяє виключити операції різки зливка, шліфовки та поліровки пластин. Найважливішою вимогою до шарів кремнію отриманих методом ГДО, з точки зору їх застосування в напівпровідниковій сонячній енергетиці є забезпечення необхідних рекомбінаційних характеристик. З цією метою були проведені дослідження часу життя неосновних носіїв заряду  вихідних пластин кремнію (монокристалічного і мультикристалічного) і шарів Si, отриманих методом ГДО з порошку, виробленого з тих же пластин.

Дослідження проводились методом вимірювання спаду фотопровідності при детектуванні мікрохвильовим зондом. Методика досліджень дозволяла визначити величину  по всій поверхні досліджуваного зразка. Зазначимо, що ні вихідні пластини ні шари, отримані методом ГДО перед вимірюванням  не проходили ніяких обробок з метою зменшення швидкості поверхневої рекомбінації і пасивації рекомбінаційно активних центрів. Отримані результати показали, що метод ГДО дозволяє отримати шари Si для яких характерні значення  дуже близькі до величин, характерних для вихідних пластин кремнію. Невисокі значення  (~3 мкс) свідчать про необхідність застосування додаткових пасивуючих обробок як для вихідних пластин, так і для отриманих шарів.

З отриманих результатів можна зробити висновок, що запропонований метод дозволяє повністю задовольнити вимогу щодо забезпечення необхідних рекомбінаційних характеристик. Це, поряд з іншими результатами, є прямим свідченням перспективності методу ГДО для застосування в напівпровідниковій сонячній енергетиці.

Схожі:

Удк 621. 315. 592 рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження iconУдк 621. 315. 592 Структура іто/InSe, отримана методом спрей-піролізу

Удк 621. 315. 592 рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження iconПарамагнітні дефекти шарів кремнію, отриманих методом газо-детонаційного осадження

Удк 621. 315. 592 рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження iconУдк 621. 315. 592 Исследовение оптических характеристик монокристаллического германия большого диаметра
А. П. Оксанич, В. В. Малеванный Кременчугский национальный университет им. Михаила Остроградского
Удк 621. 315. 592 рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження iconУдк 621. 315. 592 Кремнієві фотоперетворювачі
Кремнієві фотоперетворювачі з шарами органічних барвників з великим стоксовим зсувом
Удк 621. 315. 592 рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження iconУдк. 621. 315. 592 Провідність та фотопровідність двовимірних структур макропористого кремнію
Визначено товщину області просторового заряду в залежності від діаметру макропор досліджених структур макропористого кремнію та значення...
Удк 621. 315. 592 рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження iconВплив оточення на поверхневі рекомбінаційні процеси в кремнієвих фоточутливих структурах

Удк 621. 315. 592 рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження iconУдк 621. 315. 592 Влагочувствительность керамики на основе оксида вольфрама с добавками ванадиево-фосфатного стекла
Керамика на основе оксида вольфрама используется для изготовления низковольтных нелинейых резисторов [1], а также проявляет газочувствительные...
Удк 621. 315. 592 рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження iconУдк 621. 315. 592 Вплив розсіювання електронів на міжфазній межі на величину коефіцієнта тензочутливості металевих плівок
У зв’язку з цим постійно ведеться пошук можливостей збільшення l для металевих плівок. Один із шляхів розв’язання цієї проблеми...
Удк 621. 315. 592 рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження iconУдк 621. 315. 592 Влияние параметров процесса отжига на плотность дислокаций в слитках арсенида галлия
Менения арсенида галлия (GaAs) являются системы мобильной связи и солнечная энергетика. GaAs позволяет создавать на его основе приборы,...
Удк 621. 315. 592 рекомбінаційні характеристики кремнієвих шарів, отриманих методом газодетонаційного осадження iconУдк. 621. 315. 592 Влияние оксидного покрытия на фотопроводимость структур макропористого кремния
Для повышения стабильности применяется пассивация поверхности структур пористого кремния путем термического окисления. В данной работе...
Додайте кнопку на своєму сайті:
Документи


База даних захищена авторським правом ©zavantag.com 2000-2013
При копіюванні матеріалу обов'язкове зазначення активного посилання відкритою для індексації.
звернутися до адміністрації
Документи